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合肥元晶科技材料有限公司

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AlN film on Al2O3 wafer

蓝宝石基氮化铝(AlN film on Sapphire wafer)薄膜片

规格参数
基材蓝宝石衬底 C-plane
AlN 外延层晶体结构
铅锌矿

直径(inch)
246
基材厚度(μm)
430±15650±201300±20
AlN外延层厚度(nm)
200/400/600/800/1000或定制,本表参数以200nm为例
晶面取向
C-axis (0001) ±0.2°
有效面积
> 95%
裂纹No
HRXRD 半高宽@(0002) (arcsec)
< 100
HRXRD 半高宽@(10-12) (arcsec)< 350
表面粗糙度(5x5μm)(nm)Ra <= 2
总厚度变化(μm)<= 10
<= 20<= 20
翘曲度(μm)
<= 20<= 40<= 60
弯曲度(μm)<= 20<= 40<= 60


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